研究者一覧

安全で安心なソフトマテリアルの創製と多機能デバイス化技術

名前堀邊英夫 博士(工学)
所属環境・建築学部　 環境化学科　教授
E-mailhhoribe@neptune.kanazawa-it.ac.jp
研究内容高分子材料化学における感光性樹脂の開発

　感光性高分子（レジスト）は，電子デバイス製造における微細加工技術を支えるために不可欠な材料である．製品化される際にはレジストを除去しなければならないが，現状のレジスト除去では高価で環境に有害な薬液が大量に使用されている．薬液を用いずにレジストを除去することができれば，従来の方法に比べてコストや環境負荷の面での大きなメリットとなる．そこで，残留性のないオゾンや原子状水素を用いてレジストを酸化/還元分解により除去する，薬液フリーの新しいレジスト除去技術の開発に取り組んでいる．

 

  • 研究分野

高分子材料化学（微細加工技術，環境に配慮したレジスト除去技術，ポリマーブレンド）

 

  • 所属学会

日本化学会　高分子学会　日本応用物理学会　電子情報通信学会

 

  • 現在の研究課題

・オゾン／原子状水素を用いた環境に優しいレジスト除去技術の開発

・新規リソグラフィープロセスの開発

・導電性複合材料の研究

・多成分系ポリマーの相溶性と結晶構造に関する研究

 

  • 採択研究プロジェクト

・JSTサテライト高知平成１７年度　「実用化のための可能性試験」(FS) （研究代表者）　2005.12−2006.3

・平成16年度NEDO産業技術研究助成事業（環境分野）（研究代表者）2004.7-2007.6「オゾンを用いたレジスト剥離に関する研究」

・委託研究（化学技術振興機構(JST)の地域研究開発促進拠点支援（RSP）事業）（研究代表者）2004.7-2005.3

 

  • 主な研究業績

・” Removal characteristics of resists having different chemical structures by using ozone and water” H. Horibe, M. Yamamoto, Y. Gotoh, T. Miura, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys., 2009 (in press) .

・“Photoresist Removal Using Atomic Hydrogen Generated by Hot-Wire Catalyzer and Effects on Si-wafer Surface”　M. Yamamoto, H. Horibe, H. Umemoto, K. Takao, E. Kusano, M. Kase, and S. Tagawa,　Jpn. J. Appl. Phys. 2009 (in press)

・“Resist removal by using atomic hydrogen”　H. Horibe, M. Yamamoto, E. Kusano, T. Ichikawa, and S. Tagawa,　J. Photopolym Sci. Tech., 21(2), 293-299 (2008).

・”Poly (vinylidene fluoride) Crystal Structures of Poly (vinylidene fluoride) / Poly (methyl methacrylate) Blends after Annealing”　H.Horibe, and M.Taniyama,　J. Electrochem. Soc., 153(2), G119-G124 (2006).

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