名前 | 草野英二 工学博士 |
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所属 | 環境・建築学部環境化学科 教授 |
kusano@neptune.kanazawa-it.ac.jp | |
研究内容 | 低環境負荷型プラズマスパッタリング技術の開発と新機能性薄膜材料の創製 プラズマ・イオン注入を応用したマルチファンクショナル材料の開発 |
スパッタリング法を中心に薄膜作製プロセスおよび得られた薄膜の物性を研究しています.「ハイテク・リサーチ・プロジェクト」において蓄積してきた知見を有機高分子材料あるいはバイオマテリアルなどの薄膜化,あるいはそれらの表面改質に展開しています.さらには薄膜作製技術を石川県の伝統工芸品に応用することも試みています.
薄膜作製プロセスおよび薄膜物性
応用物理学会,日本真空協会
・スパッタリングプロセスの解析
・イオン化スパッタリングプロセスにおける薄膜構造の制御
・有機高分子薄膜の堆積プロセスおよび物性の解析
・バイオマテリアルの薄膜化および表面改質
・薄膜作製技術の石川県伝統工芸への展開
・複合材料の耐久性
・”Growth of carbon with vertically aligned nanoscale flake structure in capacitively coupled rf glow discharge”, Zhang H, Kikuchi N, Kogure T, et al., VACUUM Volume: 82 Issue: 8 Pages: 754-759 Published: APR 14 2008
・”Electrical and mechanical properties of SnO2 : Nb films for touch screens”,
Kikuchi N, Kusano E, Kishio E, et al., VACUUM Volume: 66 Issue: 3-4 Pages: 365-371 Published: AUG 19 2002