ものづくり研究所

　1996年まで民間企業にて，半導体デバイスの微細加工技術に関する研究やマイクロ波イオン源の開発とそれを応用したイオン注入装置の開発（内容はThe Physics and Technology of Ion Sources, Wiley-CVH, 2003に詳述）やRFQ粒子加速器の開発（通産省大型プロジェクト）を行ってきた．その後，大学にてこれらの研究を続けながら，あらたにイオンやプラズマを使った表面改質や成膜技術の開発を行い，工具・金型およびプラスチックの表面処理技術およびプラズマ滅菌技術の開発をしている．また，形状記憶合金を用いた新しい医療用・工業用マイクロチップの実現を目指して，イオン注入による形状記憶特性（変態温度）の精密制御や，プラズマによる合金成膜と微細加工の研究を始めた．また、2008年度より文科省の「第?期知的クラスター創生事業」に参画し、医工融合分野での研究を開始した。

• 研究分野

イオン･プラズマを使う半導体製造装置技術，工具金型の表面処理 プラスチックやFRPの表面処理,プラズマ滅菌,マルチファンクショナル材料、医工融合技術

• 所属学会

応用物理学会，電気学会，イオン工学会

• 現在の研究課題

・  ４次元血管内超音波診断装置（4D-IVUS）の開発

・  プラズマ・イオン注入を応用したマルチファンクショナル材料の開発：形状記憶合金の特性（変態温度）を精密制御した新しいマイクロアクチュエーターの実現をめざす．

・  ハイブリッドナノダイヤモンド膜（アモルファスカーボンとダイヤモンド微粒子の混合膜）の応用研究．

・  プラズマによるプラスチック容器のガスバリア性向上技術と滅菌技術の開発．

• 採択研究プロジェクト

・文科省知的クラスター事業（第?期）, “医工融合による動脈硬化の診断と治療の先導的研究―４次元血管内超音波診断装置（4D-IVUS）の開発”,　2008〜2013年度（サブテーマ代表）

・科学技術振興機構重点地域開発事業，”イオン注入技術による新規マルチファンクショナル材料の創成”，2005〜2006年度（代表）

・科学技術振興機構シーズ育成研究，“ハイブリッド・ナノダイヤモンド・コーティング技術の開発”，2001〜2005年度（代表）

・（独）日本学術振興会　科学研究費補助金　基盤研究（Ｃ），“PETボトル内面の均質プラズマコーティングと滅菌技術”，2001〜2004年度（代表）

• 主な研究業績

・  作道訓之ほか，”有磁場マイクロ波プラズマ・エッチング技術の発明“，恩賜発明賞，平成3年

・  N.Sakudo, N. Ikenaga, H. Yasui, K. Awazu, Amorphous carbon coating mixed with nano diamonds, Thin Solid Films, Volume 516, Issue 14, pp 4483-4486, 2008

・  N. Sakudo, T. Shinohara, S. Amaya, H. Endo, S. Okuji, N. Ikenaga, Ion implantation into concave polymer surface, Nucl. Instrum. and Meth. in Phys. Res. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Volume 242, Issues 1-2, pp 349-352, 2006

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