名前 | 池永 訓昭 博士(工学) |
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所属 | ものづくり研究所 研究員 |
研究内容 | プラズマ・イオン注入を応用したマルチファンクショナル材料の開発 |
プラズマを用いた薄膜形成および表面改質への応用に関する研究を行っている.研究対象としている薄膜はアモルファスカーボン(DLC)薄膜,ダイヤモンド薄膜をプラズマCVDで,TiNi合金薄膜などの金属薄膜をスパッタリング,真空蒸着で形成し,様々な材料の高機能化(高付加価値化)あるいはデバイス化の研究を行っている.表面改質はPETなどの高分子材料の表面改質を行っており,ガス透過性の改善などの高機能化や滅菌処理技術への応用を行っている.また,プロセスプラズマの観点から,プラズマパラメータの制御技術の開発と各種薄膜とプラズマパラメータとの相関関係について研究を行っている.民間企業在籍中には開発業務に従事し,基礎実験から開発機の設計・組立て・調整,フィールド実験までを一貫して行い,いわゆる“ものづくり”を経験してきた.
工具・金型の表面処理,高分子材料の表面処理,プラズマ滅菌,マルチファンクショナル材料の創製
応用物理学会,日本鋳造工学会
・ プラズマ・イオン注入を応用したマルチファンクショナル材料の開発.
・ ハイブリッドナノダイヤモンド膜(アモルファスカーボンとダイヤモンド微粒子の混合・複合膜)の応用.
・ プラズマイオン注入成膜技術におけるプラズマ内部パラメータの評価とその制御.
・ 文部科学省知的クラスター創製事業(第?期),ほくりく健康創造クラスター(研究分担者)2008〜2013年度
・ N. Ikenaga, Y. Kishi, Z. Yajima and N. Sakudo, “Influence of Substrate Temperature on Texture for Deposited TiNi Films”, to be published in Advances in Science and Technology Vol. 59, pp 30-34, 2008
・ N.Ikenaga, N.Sakudo, K.Awazu, H.Yasui, Y.Hasegawa, “Study on hybrid nano-diamond films formed by plasma chemical vapor deposition (CVD)”, Vacuum, 80[7], pp.810-813, 2006
・ N.Ikenaga, K.Awazu, N.Sakudo, H.Yasui, T.Kawabata, “Effect of electron temperature on the DLC film properties, Surface and Coatings Technology”, 196, pp.226-230, 2005